一种low-e玻璃镀层的清除剂及清除方法
技术类型 ： 专利
专利所属地 ：中国
公开号 ：CN202311405411.4
技术成熟度 ：正在研发
转让方式 ：技术转让
交易价格：面议
应用领域 ： 砖瓦、石材等建筑材料制造
技术领域 ：功能玻璃制备技术
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成果概况
简介
本发明涉及一种清除low-e玻璃镀层的清除剂及清除方法。该清除剂包括清除液A和清除液B,其中：清除液A包括1～5M的无机酸、5％～20％的无机助磨试剂、1％～5％的pH缓冲剂、1％～5％的分散剂、1％～5％的螯合剂、1％～5％的表面活性剂和1％～5％的催化剂；清除液B包括3～10M的无机碱、5％～20％的无机助磨试剂、1％～5％的pH缓冲剂、1％～5％的分散剂、1％～5％的螯合剂、1％～5％表面活性剂和1％～5％的催化剂。本发明所提供的清除剂具有配方稳定、去除力强、不易挥发、不易分解、持久力强等优点,同时溶剂量少,廉价；不含苯、氰化物、重金属等有毒物质；对于玻璃上的镀层能有效脱除,适用于不良品的返修工序和废旧品的回收再利用。
专利基本信息
| 专利名称 | 一种low-e玻璃镀层的清除剂及清除方法 | ||
| 专利状态 | 实审 | 公开号 | CN202311405411.4 |
| 申请号 | CN117448089A | 专利申请日期 | 2023-10-26 |
| 专利授权日期 | 0001-01-01 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明 |
| 发明人 | 天津科技大学 | ||
| 权利人 | 刘靖,杨晓林,孔德茹,张进康,孙冬兰 | ||
| 专利摘要 | 本发明涉及一种清除low-e玻璃镀层的清除剂及清除方法。该清除剂包括清除液A和清除液B,其中：清除液A包括1～5M的无机酸、5％～20％的无机助磨试剂、1％～5％的pH缓冲剂、1％～5％的分散剂、1％～5％的螯合剂、1％～5％的表面活性剂和1％～5％的催化剂；清除液B包括3～10M的无机碱、5％～20％的无机助磨试剂、1％～5％的pH缓冲剂、1％～5％的分散剂、1％～5％的螯合剂、1％～5％表面活性剂和1％～5％的催化剂。本发明所提供的清除剂具有配方稳定、去除力强、不易挥发、不易分解、持久力强等优点,同时溶剂量少,廉价；不含苯、氰化物、重金属等有毒物质；对于玻璃上的镀层能有效脱除,适用于不良品的返修工序和废旧品的回收再利用。 | ||