本发明提供了一种防菌体贴壁及沉淀的光合细菌培养基,包括如下成分：碳源、氮源、无机盐和稳定剂。本发明解决了因光合细菌贴壁需要在光反应器内加装洗刷或摩擦内壁装置的问题,免去了通过机械或者磁力摩擦的方式去除附着在内壁的光合细菌的操作,使得抑制贴壁和沉底的方法成本更低,细菌培养更方便、可控。本发明方法操作简单,可适用于光合细菌大规模化培养；本发明抑制了光合细菌的趋光贴壁,减少了对于贴壁菌体对于光的遮挡作用,提高了光反应器的透光率,使细菌能够更好地繁殖和生长,在长时间的光合细菌保存中抑制光合细菌菌体的沉底,更有利于光合细菌的菌种保存。