高纯过氧化氢的制备方法
技术类型 ： 专利
专利所属地 ：中国
公开号 ：CN03109427.9
技术成熟度 ：正在研发
转让方式 ：技术转让
交易价格：面议
应用领域 ： 研究和试验发展
技术领域 ：科学分析仪器/检测仪器
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成果概况
简介
本发明涉及电子级高纯过氧化氢的制造方法,将工业过氧化氢水溶液首先与大孔强碱性阴离子交换树脂接触,再与大孔强酸性阳离子交换树脂接触,再与混合离子交换树脂接触,最后经孔径小于0.2微米的微滤膜过滤制得高纯过氧化氢产品。本发明可制得无色、无味、透明,性能稳定,杂质含量低的液体过氧化氢的产品,各种金属离子含量小于10ppb,符合半导体设备与材料国际标准SEMI·Cl·9-90和SEMI·C7·5-93,能够满足半导体生产工艺中晶片清洗剂的要求。本发明生产工艺条件不苛刻,设备简单,操作容易,原料易得,成本低,利润高,可实现连续化大规模生产。
专利基本信息
| 专利名称 | 高纯过氧化氢的制备方法 | ||
| 专利状态 | 其他 | 公开号 | CN03109427.9 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2003-04-10 |
| 专利授权日期 | 2005-02-16 | 专利权届满日 | 2015-02-16 |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 实用新型 |
| 发明人 | 天津科技大学 | ||
| 权利人 | 马敬环, 唐娜, 赵永宏 | ||
| 专利摘要 | 本发明涉及电子级高纯过氧化氢的制造方法,将工业过氧化氢水溶液首先与大孔强碱性阴离子交换树脂接触,再与大孔强酸性阳离子交换树脂接触,再与混合离子交换树脂接触,最后经孔径小于0.2微米的微滤膜过滤制得高纯过氧化氢产品。本发明可制得无色、无味、透明,性能稳定,杂质含量低的液体过氧化氢的产品,各种金属离子含量小于10ppb,符合半导体设备与材料国际标准SEMI·Cl·9-90和SEMI·C7·5-93,能够满足半导体生产工艺中晶片清洗剂的要求。本发明生产工艺条件不苛刻,设备简单,操作容易,原料易得,成本低,利润高,可实现连续化大规模生产。 | ||