技术类型 : 专利
专利所属地 :中国
公开号 :CN202110822198.1
技术成熟度 :正在研发
转让方式 :技术转让
交易价格:面议
应用领域 : 铁合金冶炼
技术领域 :新材料
专利名称 | 高指数晶面Cu-2O光催化剂的制备方法及其应用 | ||
专利状态 | 实审 | 公开号 | CN202110822198.1 |
申请号 | CN114762826A | 专利申请日期 | 2021-07-21 |
专利授权日期 | 0001-01-01 | 专利权届满日 | - |
专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明 |
发明人 | 天津科技大学 | ||
权利人 | 李臻,丘平,吕树祥 | ||
专利摘要 | 本发明涉及一种高指数晶面氧化亚铜光催化剂的制备方法,作为一种高效的可见光光催化剂,此催化剂具有良好的活性和稳定性,其制备方法包含以下步骤:(1)将二价铜盐溶解于水中;(2)依次加入一定量的氢氧化钾和抗坏血酸,加热还原,得到高指数晶面Cu-2O光催化剂。这种新型Cu-2O光催化剂对降解甲基橙等染料有良好的催化活性。高指数晶面Cu-2O含有高密度的活性位点,不同晶面之间会形成能级差。在可见光的照射下,高指数晶面Cu-2O的介带VB中空穴可将H-2O和-OH氧化为·OH,同时,导带CB中具有光生电子将O-2还原为·O-2~-,·O-2~-和H-2O反应会产生·OH,高浓度·OH加快降解甲基橙等染料降解速率。 |