一种低角度依赖性结构显色薄膜的制备方法

一种低角度依赖性结构显色薄膜的制备方法

技术类型 : 专利

专利所属地 :中国

公开号 :CN201910850454.0

技术成熟度 :正在研发

转让方式 :技术转让

交易价格:面议

应用领域 : 专用化学产品制造

技术领域 :超导、高效能电池等其它新材料制备与应用技术

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成果概况
简介
本发明提供了一种低角度依赖性结构显色薄膜的制备方法,属于结构生色材料制备的技术领域。解决了结构显色薄膜的角度依赖性问题,找到了特定的制备工艺和条件制备高质量生色薄膜材料。提供了一种在弱碱环境下生成特定黑色材料,将之包覆在其他材料表面形成核壳结构,再结合多种介质及工艺来制备结构显色薄膜的方法。该制备方法的特征在于利用弱碱环境,结合多种材料以及工艺形成具有特定结构的结构显色薄膜材料,核壳粒子的粒径为在135-275nm之间,薄膜反射光谱峰在460-650nm之间。利用本发明制备的结构生色薄膜材料具有显色效果好、各向同性和环保等诸多优点,在颜料、显示、防伪及传感等方面具有应用价值。
专利基本信息
专利名称 一种低角度依赖性结构显色薄膜的制备方法
专利状态 授权 公开号 CN201910850454.0
申请号 CN110527124A 专利申请日期 2019-09-10
专利授权日期 2021-05-07 专利权届满日 2041-05-07
专利所属地 中国 专利类型 发明
发明人 天津科技大学;
权利人 陈永利,王淑珍,田婕慧,王雪平
专利摘要 本发明提供了一种低角度依赖性结构显色薄膜的制备方法,属于结构生色材料制备的技术领域。解决了结构显色薄膜的角度依赖性问题,找到了特定的制备工艺和条件制备高质量生色薄膜材料。提供了一种在弱碱环境下生成特定黑色材料,将之包覆在其他材料表面形成核壳结构,再结合多种介质及工艺来制备结构显色薄膜的方法。该制备方法的特征在于利用弱碱环境,结合多种材料以及工艺形成具有特定结构的结构显色薄膜材料,核壳粒子的粒径为在135-275nm之间,薄膜反射光谱峰在460-650nm之间。利用本发明制备的结构生色薄膜材料具有显色效果好、各向同性和环保等诸多优点,在颜料、显示、防伪及传感等方面具有应用价值。