技术类型 : 专利
专利所属地 :中国
公开号 :CN201910850454.0
技术成熟度 :正在研发
转让方式 :技术转让
交易价格:面议
应用领域 : 专用化学产品制造
技术领域 :超导、高效能电池等其它新材料制备与应用技术
| 专利名称 | 一种低角度依赖性结构显色薄膜的制备方法 | ||
| 专利状态 | 授权 | 公开号 | CN201910850454.0 |
| 申请号 | CN110527124A | 专利申请日期 | 2019-09-10 |
| 专利授权日期 | 2021-05-07 | 专利权届满日 | 2041-05-07 |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明 |
| 发明人 | 天津科技大学; | ||
| 权利人 | 陈永利,王淑珍,田婕慧,王雪平 | ||
| 专利摘要 | 本发明提供了一种低角度依赖性结构显色薄膜的制备方法,属于结构生色材料制备的技术领域。解决了结构显色薄膜的角度依赖性问题,找到了特定的制备工艺和条件制备高质量生色薄膜材料。提供了一种在弱碱环境下生成特定黑色材料,将之包覆在其他材料表面形成核壳结构,再结合多种介质及工艺来制备结构显色薄膜的方法。该制备方法的特征在于利用弱碱环境,结合多种材料以及工艺形成具有特定结构的结构显色薄膜材料,核壳粒子的粒径为在135-275nm之间,薄膜反射光谱峰在460-650nm之间。利用本发明制备的结构生色薄膜材料具有显色效果好、各向同性和环保等诸多优点,在颜料、显示、防伪及传感等方面具有应用价值。 | ||