技术类型 : 专利
专利所属地 :中国
公开号 :CN201110212802.5
技术成熟度 :正在研发
转让方式 :技术转让
交易价格:面议
应用领域 : 环境与生态监测检测服务
技术领域 :科学分析仪器/检测仪器
专利名称 | 一种富集痕量速灭威的金属有机框架分子印迹聚合物的制备方法 | ||
专利状态 | 授权 | 公开号 | CN201110212802.5 |
申请号 | CN102898566A | 专利申请日期 | 2011-07-28 |
专利授权日期 | 0001-01-01 | 专利权届满日 | - |
专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 实用新型 |
发明人 | 天津科技大学 | ||
权利人 | 王硕,方国臻,钱坤,王俊平 | ||
专利摘要 | 本发明涉及一种富集痕量速灭威的金属有机框架材料分子印迹聚合物的制备方法,其主要的技术要点是以金属有机框架材料为支持体,以速灭威为模板分子,甲基丙烯酸为功能单体,四乙氧基硅烷为交联剂,乙腈为溶剂,利用包埋法合成对速灭威具有高选择性的吸附功能材料。本发明成本低廉,合成过程简单,反应条件容易控制,所制成的速灭威分子印迹聚合物可用于固相萃取富集与高效液相色谱联用,可以用于各种食品样品中痕量速灭威的分离富集。 |